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真空镀膜机真空镀,溅镀,涂镀区别

来源:www.gongnulieren.com发表时间:2021-05-12

真空镀膜机真空镀,溅镀,涂镀区别
   很多人对真空镀膜机真空镀和溅镀以及涂镀,总是模拟两可,分不清楚,真空镀和涂镀,区别还是很大的,下面为大家介绍一下,希望能帮助到大家:
    真空镀膜机采用的是PVD-物理气相沉积,指利用物理过程实现物质转移,将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上,使得母体具有更好的性能。
    真空镀膜机真空镀膜基本方法:真空蒸镀、溅镀、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)

真空蒸镀、溅镀、离子镀
   真空镀主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型,它们都是采用在真空条件下,通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜,通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层,同时具有速度快附着力好的突出优点,但是价格也较高,可以进行操作的金属类型较少,一般用来作较高档产品的功能性镀层。

   真空蒸镀法是在高真空下为金属加热,使其熔融、蒸发,冷却后在样品表面形成金属薄膜的方法,镀层厚度为0.8-1.2um。将成形品表面的微小凹凸部分填平,以获得如镜面一样的表面,无任是为了得到反射镜作用而实施真空蒸镀,还是对密接性较低的夺钢进行真空蒸镀时,都必须进行底面涂布处理。

    溅镀通常指的是磁控溅镀,属于高速低温溅镀法。该工艺要求真空度在1×10-3Torr左右,即1.3×10-3Pa的真空状态充入惰性气体氩气(Ar),并在塑胶基材(阳极)和金属靶材(阴极)之间加上高压直流电,由于辉光放电(glowdischarge)产生的电子激发惰性气体,产生等离子体,等离子体将金属靶材的原子轰出,沉积在塑胶基材上。一般金属镀膜大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀。

    真空镀膜机离子镀是在真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离,并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下,将蒸发物质或其反应物沉积在基片上的方法。其中包括磁控溅射离子镀、反应离子镀、空心阴极放电离子镀(空心阴极蒸镀法)、多弧离子镀(阴极电弧离子镀)等。


涂镀:
    涂镀,又称为刷镀或无槽电镀,是在金属工件表面局部快速电化学沉积金属的技术,其在原理和本质都属于电化学加工中电镀工艺的范筹。是和电解相反,利用电镀液中金属离子在电场的作用下,镀覆沉积到阴极上去的加工过程。


  

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